光刻技术,关于光刻技术的所有信息 - 十分六合彩

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        关于光刻技术的所有信息
        我国科学家造出9nm光刻试验样机,以后集成电路制造不再受制于人?
        我国科学家造出9nm光刻试验样机,以后集成电路制造不再受制于人?

        4月10日记者从武汉光电国家研究中心获悉,该中心甘棕松团队采用二束激光在自研的光刻胶上突破了光束衍射极限的限制,采用远场光学的办法,光刻出最小9纳米线宽的线段,实现了从超分辨成像到超衍射极限光刻制造的重大创新。

        什么是扇出型封装?扇出型封装面临哪些挑战?

        先进封装技术已进入大量移动应用市场,但亟需更高端的设备和更低成本的工艺制程。

        高密度扇出型封装给光刻设备带来了哪些挑战?
        高密度扇出型封装给光刻设备带来了哪些挑战?

        先进封装技术已进入大量移动应用市场,但亟需更高端的设备和更低成本的工艺制程。

        光刻技术进入7nm时代,集成电路掩模产业发展增速明显
        光刻技术进入7nm时代,集成电路掩模产业发展增速明显

        伴随集成电路的发展,随之而来的是集成电路光刻技术的发展,光刻技术经历了从最初的接触式光掩模技术起步,到今天的世界最先进光刻技术已经跨越到了7nm。弹指间,技术变革的脚步始终不变,集成电路也进入了掩模新时代。

        光刻市场和光刻工艺现状
        光刻市场和光刻工艺现状

        近期,半导体界掀起了一阵小小的光刻潮,原因就是浸润式光刻技术的开创者林本坚博士获得了2018年未来科学大奖-数学与计算机科学奖,并于近日进行了多次主题演讲,使半导体光刻这项高端而又略显神秘的技术形象地展示在了业界人士面前,也使得越来越多的人对它产生了兴趣,希望能够进一步了解和研讨。

        半导体最强工艺——光刻技术
        半导体最强工艺——光刻技术

        光刻是集成电路最重要的加工工艺,他的作用,如同金工车间中车床的作用。在整个芯片制造工艺中,几乎每个工艺的实施,都离不开光刻的技术。光刻也是制造芯片的最关键技术,他占芯片制造成本的35%以上。

        芯片这么重要,为啥中国就是搞不定呢

        中美贸易战爆发不久,美国就祭出杀招,他们的商务部向全世界宣布对中兴通讯采取出口管制措施,瞬间把这场大战推向了最高潮。

        EUV吞吐量/掩膜/成本/光罩/产能/工艺步骤深度分析,台积电、格罗方德、英特尔都已准备好?
        EUV吞吐量/掩膜/成本/光罩/产能/工艺步骤深度分析,台积电、格罗方德、英特尔都已准备好?

        在每年一度的半导体行业战略研讨会(ISS)上,半导体行业的高管们都会讨论半导体技术趋势和全球市场的发展。这篇文章介绍了一位行业观察家在会议上分享的关于EUV光刻技术在不同工艺节点中的技术路径的内容和结论。

        中国光刻领域首次国际会议在京召开,中科院微电子所所长接受采访

        中国作为电子产品消费大国,近几年每年进口芯片花费的金额高达2000多万美元,为此国家推出集成电路发展纲要,设立大基金,全力推动集成电路产业的发展。为了加快集成电路产业发展,国内资本想通过并购国外先进半导体企业实现“弯道超车”,一度引起国外的恐慌和质疑,他们认为中国集成电路发展起来会对他们构成威胁和竞争,收购之门随之关闭。

        e世绘︱解读世界四大晶圆厂EUV计划,台积电/英特尔为啥比三星晚一步?

        SPIE高级光刻会议是世界领先的光刻技术会议。在今年会议开幕的当天,三星和英特尔陈述了当前EUV用于大批量制造的准备状况。本文将会总结四个世界领先晶圆制造厂的EUV计划,讨论关于英特尔、三星的进度,探讨EUV的大批量生产的前景。

        芯片世界观︱AMD Zen处理器的14nm工艺要用4年是什么概念
        芯片世界观︱AMD Zen处理器的14nm工艺要用4年是什么概念

        AMD已经确认,Zen架构和后续的修订版本都将采用14nm光刻制造工艺,直到2020年才可能上马7nm光刻技术。在我看来,AMD这次又错过了一个赶上英特尔的机会,因为英特尔到2017年年底会用上10nm光刻技术,到2019年时则会推出一个全新的架构。

        数说2014-2018年全球半导体资本,跑不跑偏就看2016年
        数说2014-2018年全球半导体资本,跑不跑偏就看2016年

        据市场调研公司Gartner报告显示,2016年全球半导体资本支出预计将下滑4.7%至594亿美元。

        蔡司2014/15财年圆满结束

        在2014/15财政年度(截至2015年9月30日),蔡司的营收和利润都实现了增长:营收增长了5%至45.11亿欧元(去年为42.87亿欧元)。税前利润为3.69亿欧元,比去年(3.6亿欧元)略微有所上升。

        宏力宣布量产Cypress 90nm技术

        领先的多元化技术代工厂商宏力半导体宣布已为其战略客户Cypress Semiconductor对采用193nm光刻技术和低成本BEOL技术的异步SRAM工艺量产进行了全面认证。这一里程碑是宏力已计划的

        工业界即将迎来光刻技术转变

        半导体产业历史上最大的一次转变已经开始了。传统的光学光刻一直都是半导体产业和摩尔定律的核心,但这项技术的统治即将终结。对替代技术的权衡正如火如荼地进行着——常常也是无声无息地——其结果也正逐渐显现,看起来似乎不只是单一的替代方案。像目前这样一种光刻技术适用于所有逻辑和存储器制造商的情况也会走到尽头,给未来工业界留下了更多问题而不是答案。

        中国32nm技术脚步渐近

        32nm离我们还有多远?技术难点该如何突破?材料与设备要扮演何种角色?10月28日于北京举办的先进半导体技术研讨会即围绕“32nm技术发展与挑战”这一主题进行了探讨。

        英特尔与ASML加速开发下一代半导体关键制造技术

        英特尔将投入8.29亿欧元(约10亿美元)支持ASML的研发项目,加速开发450毫米晶圆和超紫外线(EUV)光刻的新技术,预计将比原时间节点提前两年实现产业化应用。

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